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什么是ICP光谱仪的去溶干扰?
www2138com官网:0 发布时间:2016-04-21
 

1. 去溶干扰就是去除溶剂的干扰,主要是扣除背景.
2.
可以提高灵敏度,降低检出限.
3.
去溶过程主要出现于分析液体样品的原子吸取和ICP发射光谱,它是指将雾化后的液(湿)气溶胶中溶剂挥发变为干气溶胶的过程。对于ICP来说,因为加热条件比较好,只要使气溶胶在分析通道的停留时间足够长,即使不用去溶装置也可使分析物完全挥发,而基本上没有什么去溶损失,所以ICP的去溶干扰并不十分明显,更不是很重要。

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